半導体製造装置に数多く採用
情報ネットワーク社会の実現ヘ、キーテクノロジーと言われる半導体産業。クライオポンプの信頼性が、生産性の向上に貢献します。スパッタリング装置やイオン注入装置をはじめとした半導体製造装置に数多く採用され、すでに大きな実績をもつクライオポンプ。シンプルな基本構造ならではの、高い信頼性と安定した性能。長い再生インターバルが、装置の連続稼動時間を伸ばし、今製造現場で求められている効率化と生産性向上二一ズに応えています。
半導体製造における応用分野
スパッタリング装置／イオン注入装置／蒸着装置／エッチング装置／CVD等
あらゆる物性・物理研究分野において、なくてはならないデバイス
例えば、大字宙の起源を理論上探究することを目的に行われる素粒子の研究。この研究に重要な役割を果たす加速器にも、クライオポンプは利用されています。さまざまな物性や反応を阻害し、そしてそれらの測定や観察を遮る余分な水をはじめとするイオンや粒子。クライオポンプは、これらをスピーディーに排出しクリーンな真空を実現。あらゆる物性・物理研究分野において、なくてはならないデバイスとしてその応用範囲は、まだまだ広がりをもっています。研究テーマに合わせたクライオポンプを御提案致します。
物性・物理研究における応用分野
加速器／核融合装置／電子顕微鏡／分子線エピタキシャル装置（MBE）／スペースチャンバー／表面分析装置／イオンビーム測定装置
