インプラ | ナガセテクノエンジニアリング株式会社

解説

「イオンインプランテーション」の略称。「I/I」という記号で示されたりすることもある。
「イオン注入」「イオン打ち込み」とも呼ばれるイオン注入工程とは、半導体に電気（正確にいうと電子）が流れたり溜ったりするところを作る工程である。具体的には、シリコンウェーハにボロンや砒素などのイオンを注入する。
かなり乱暴に表現するなら、イオン注入をしないと、半導体の素子を正常に動作できる電気は通らない。つまり、イオン注入なしではまともに動くIC ができない。

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